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2025年7月10日，長春—— 在“2025?新型顯示行業供應鏈技術和市場對接交流會”期間舉辦的新型顯示產業鏈年度頒獎盛典上，晶洲裝備與新型顯示頭部企業聯合開發的氫氟酸清洗設備榮膺 “協同開發獎”。

氫氟酸清洗作為顯示制程中的關鍵環節，其清洗效果直接影響到器件結構的最終性能、效率與穩定性，關系到最終產品的良品率。它不僅要去除有源層表面的雜質而且要使表面鈍化，從而減少界面雜質的吸附能力，對表面的潔凈度要求非常嚴格，理論上不允許存在任何顆粒、金屬離子、有機粘附、水汽以及氧化層，對表面要求具備原子級的平坦度，保障后制程的工藝可靠性。為此，晶洲聯合新型顯示頭部企業歷時三年突破九大技術壁壘，緊密配合，成功研制出氫氟酸清洗機并實現量產，降低了供應鏈波動風險，為我國在AMOLED領域逐步形成自主技術體系奠定了基礎。

未來，晶洲將持續增加在產品研發及創新上的投入，深化與面板企業協同開發模式。申報書明確戰略目標：“聯合產業鏈伙伴，打造自主可控的濕法制程裝備高地！” 這一目標高度契合了當前顯示產業通過“全產業鏈協同創新”形成新質生產力、構筑競爭新優勢的發展路徑。