當(dāng)前位置：首頁 » 行業(yè)資訊 » 測量晶圓平整度，高精度與快速兩者兼具

測量晶圓平整度，高精度與快速兩者兼具

文章出處：網(wǎng)責(zé)任編輯：作者：人氣：-發(fā)表時間：2020-11-10 22:14:00

晶圓是芯片光刻的基材，每一步的工序都會直接影響到芯片質(zhì)量，半點(diǎn)差錯都有可能導(dǎo)致全盤皆輸。晶圓制備要經(jīng)過襯底制備和外延工藝兩大環(huán)節(jié)，其中的工藝標(biāo)準(zhǔn)都有所不同，在這里不進(jìn)行闡述。在經(jīng)過表面拋光后就需要進(jìn)行平整度檢測。因?yàn)榫A經(jīng)過拋光之后平整度精度達(dá)到了μm級而且精度要求非常之高，加上不能接觸晶圓進(jìn)行拋光工序之后的表面，不然晶圓表面被劃傷質(zhì)量等級就會下降，所以晶圓的平整度測量需要交給多激光平整度測量儀來進(jìn)行。

?？扑级嗉す馄秸葴y量儀采用激光非接觸式測量，保護(hù)晶圓表面免受損傷。多個激光頭可實(shí)現(xiàn)對平面的多點(diǎn)掃描或線掃描，一次性數(shù)據(jù)采集后通過軟件計算，實(shí)時給出晶圓的平整度誤差測量判定，測量步驟簡單測量結(jié)果明了。晶圓平整度測量儀操作方便簡單，無需培訓(xùn)，無視操作人員的經(jīng)驗(yàn)以及狀態(tài)，長期測量穩(wěn)定如一。