晶圓厚度測量被這間公司不可思議地實現(xiàn)了
在技術(shù)人員將芯片從晶片中分離出來并組裝成光電或高頻原件之前,晶片首先足夠薄,能夠附著在載體材料上,然后研磨和拋光到規(guī)定的尺寸。晶片厚度是衡量元件可用性的一個重要指標(biāo)。根據(jù)應(yīng)用情況,晶片通常在底部,初始厚度從350μm到小的100μm。
當(dāng)與敏感晶片一起工作時,在加工過程中會有輕微的機(jī)械損傷,例如細(xì)小的裂紋。接觸測量會對晶片造成進(jìn)一步的損壞,由于接觸壓力而完全無法使用。
為了達(dá)到精確的厚度控制,多次測量晶片的厚度。直到近,這一過程的測量都是接觸測量的。這種方法的工作原理是:在將晶片粘在載體上之前,測量晶片的厚度。粘著后,再次測量。這兩個測量值之間的差值可以用來近似該層的厚度。這用于計算去除原料后拋光晶片的厚度。
由于這種方法并不特別準(zhǔn)確,因此負(fù)責(zé)方?jīng)Q定購買一臺專用測量設(shè)備,它將提供準(zhǔn)確的測量結(jié)果,盡可能不接觸地測量。海科思提供一臺激光影像測量儀300x200, 采用的光路與激光聯(lián)合技術(shù),根據(jù)測量過程的要求,二套光路可實現(xiàn)自動切換。實現(xiàn)高速測量,激光影像測量儀的大優(yōu)點是精度高,非接觸測量對被晶圓不會有損傷。
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